ABŞ-ın rəhbərlik etdiyi ixrac nəzarəti Çini ekstremal ultrabənövşəyi (EUV) litografiya alətlərini inkişaf etdirmək səylərini sürətləndirməyə vadar edir. Bu nəzarətlər Çinin qabaqcıl yarımkeçirici texnologiyalarına çıxışını məhdudlaşdırmaq məqsədi daşıyır. Nəticədə, Çin daxili imkanlarını gücləndirmək üçün böyük sərmayələr yatırır. Lakin sənaye ekspertləri və analitiklər hesab edirlər ki, Çinin bu onillikdə öz EUV texnologiyasını tam şəkildə inkişaf etdirməsi və tətbiq etməsi ehtimalı azdır. Bu, əsasən, EUV litografiyasının mürəkkəbliyi və inkişafı üçün tələb olunan geniş tədqiqat və inkişaf (Ar-Ge) səyləri ilə bağlıdır. EUV litografiyası, müasir mikroçip istehsalında ən qabaqcıl texnologiyalardan biridir və daha kiçik, daha güclü və daha səmərəli çiplərin istehsalına imkan verir. Bu texnologiyanın inkişafı yüksək dəqiqlikli optika, mürəkkəb lazer sistemləri və xüsusi materiallar kimi bir çox sahədə innovasiyaları tələb edir. Hazırda bu sahədə liderlik edən şirkətlər onilliklər boyu davam edən tədqiqatlar və milyardlarla dollarlıq sərmayələr nəticəsində bu səviyyəyə çatıblar. Çinin bu boşluğu qısa müddətdə doldurması üçün böyük texnoloji və maliyyə çətinlikləri ilə üzləşdiyi bildirilir. Ekspertlər qeyd edirlər ki, ilkin prototiplərin hazırlanması belə böyük bir nailiyyət olsa da, onların kütləvi istehsal üçün uyğun hala gətirilməsi və kommersiya miqyasında tətbiqi tamamilə başqa bir məsələdir. Bu proses, təchizat zəncirinin qurulması, istehsal proseslərinin optimallaşdırılması və yüksək keyfiyyət standartlarının təmin edilməsi kimi əlavə çətinlikləri özündə ehtiva edir. ABŞ-ın ixrac nəzarəti, Çinin bu sahədəki beynəlxalq əməkdaşlıq imkanlarını da məhdudlaşdıraraq, daxili inkişaf prosesini daha da çətinləşdirir. Nəticədə, Çinin EUV ambisiyalarının bu onillikdə tam reallaşması üçün ciddi maneələr mövcuddur.